[发明专利]测量玻璃板中畸变的量规

权利要求书

1.一种用于测量平面基板中畸变的方法，所述方法包括以下步骤：

提供平面基板，在其表面上具有可视的多个畸变基准标记，

使用图像捕捉设备的阵列生成各个基准标记的基准图像，使所述图像捕捉 设备的阵列定位在相对于所述多个基准标记的预定位置中以使各个基准标记 在所述多个图像捕捉设备之一的视场中；

使所述平面基板经受致畸变处理情况；

使用在所述预定位置中的图像捕捉设备的阵列生成各个基准标记的处理 后的图像；以及

将各个基准图像的处理后的图像与各个基准标记的基准图像进行比较以 在所述多个图像捕捉设备的视场内测量在使所述平面基板经受所述致畸变处 理情况之前和之后的所述基准标记的定位之间的任何偏差。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板是玻璃。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述致畸变处理情况是热退 火。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述致畸变处理情况是切割。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，同时生成各个基准标记的基 准图像。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，同时生成各个基准标记的处 理后的图像。

7.一种用于比较两个或更多个平面基板的尺寸参数的方法，所述方法包 括以下步骤：

提供平面主基板，在其表面上具有可视的多个尺寸基准标记，

使用图像捕捉设备的阵列生成各个主基板基准标记的基准图像，使所述图 像捕捉设备的阵列定位在相对于所述多个基准标记的预定位置中以使各个基 准标记在所述多个图像捕捉设备之一的视场中；

提供第二平面基板，在其表面上具有可视的多个尺寸基准标记；

使用定位在所述预定位置的图像捕捉设备的阵列生成各个第二基板基准 标记的基准图像；以及

将所述第二基板的基准图像与所述主基板的基准图像进行比较以在所述 多个图像捕捉设备的视场内测量所述第一基板和第二基板尺寸基准标记的定 位之间的任何尺寸差异。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述尺寸基准标记包括所述 第一和第二基板的一个或多个边缘部分。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述尺寸基准标记包括所述 第一和第二基板的一个或多个角落部分。

10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述主和第二基板是玻璃。

11.如权利要求7所述的方法，其特征在于，包括提供多个第二平面基板， 在各个的表面上具有可视的多个尺寸基准标记；

使用定位在所述预定位置的图像捕捉设备的阵列生成所述多个第二平面 基板的每一个的各个第二基板基准标记的基准图像；以及

将所述多个第二基板的每一个的基准图像与所述主基板的基准图像进行 比较以在所述多个图像捕捉设备的视场内测量所述主基板和所述多个第二基 板尺寸基准标记的定位之间的任何尺寸差异。

12.一种用于测量平面基板中的畸变的坐标测量装置，其包括：

基座组件，其包括具有配置成接受所述平面基板的顶面的底板；以及

图像捕捉设备的多维阵列，各个图像捕捉设备具有视场并且被定位在与所 述底板的顶面的至少一部分平行且叠加对准的平面中；

其中使所述多个图像捕捉设备取向成与所述多维阵列的平面垂直，以使各 个图像捕捉设备的视场可捕捉所述底板的顶面的至少一部分；以及

其中可使所述多个图像捕捉设备的每一个选择性地定位在所述多维阵列 的平面内定义的预定坐标中。

13.如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述基座组件进 一步包括一种用于相对于所述底板对准所接受的平面基板的装置。

14.如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述基座组件进 一步包括一种用于将所述平面基板可松开地附着于所述底板的装置。