[发明专利]具有其低折射率层与高折射率层的厚度比优化的耐温抗反射涂层的光学制品有效
| 申请号： | 200780032457.9 | 申请日： | 2007-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN101512389A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | F·阿鲁伊;O·贝纳特;L·努韦罗;M·托马斯 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及具有抗反射性和高热阻的光学制品，其包括至少一个主面涂有包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层的多层抗反射涂层的基材，其中比率RT＝(抗反射涂层的低折射率层的物理厚度之和)/(抗反射涂层的高折射率层的物理厚度之和)大于2.1。如果所述抗反射叠层包括至少一个物理厚度≥100nm且不是抗反射涂层最外层的低折射率层，则所述比率RT计算中不考虑相对厚的层以及底下层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 折射率 厚度 优化 耐温 反射 涂层 光学 制品 | ||
【主权项】：
1.一种具有抗反射性的光学制品，其包括具有至少一个涂有多层抗反射涂层的主面的基材，所述多层抗反射涂层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层，其中：-各低折射率层的折射率为1.55或更低，-各高折射率层的折射率高于1.55，并且该层不包含五氧化二铌(Nb2O5)，-光学制品的所述经涂布主面的平均发光反射系数Rv≤1％，以及：(a)抗反射涂层在所述涂层最外层以下的低折射率层各自具有小于100nm的物理厚度，比率![]()
大于2.1，并且抗反射涂层不包括含铌(Nb)亚层，或者：(b)抗反射涂层包括：-至少一个物理厚度≥100nm且不是抗反射涂层最外层的低折射率层，和-至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，它们位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方，并且比率![]()
大于2.1，条件是所述比率RT计算中所考虑的抗反射涂层的各层仅是位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方的各层，并且优选抗反射涂层不包括含铌(Nb)亚层。
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