[发明专利]具有其低折射率层与高折射率层的厚度比优化的耐温抗反射涂层的光学制品

权利要求书

1.一种具有抗反射性的光学制品，其包括具有至少一个涂有多层抗反射涂层的主面的基材，所述多层抗反射涂层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的叠层，其中：

-各低折射率层的折射率为1.55或更低，

-各高折射率层的折射率高于1.55，并且该层不包含五氧化二铌(Nb₂O₅)，

-光学制品的所述经涂布主面的平均发光反射系数R_v≤1％，以及：

(a)抗反射涂层在所述涂层最外层以下的低折射率层各自具有小于100nm的物理厚度，比率

大于2.1，并且抗反射涂层不包括含铌(Nb)亚层，

或者：

(b)抗反射涂层包括：

-至少一个物理厚度≥100nm且不是抗反射涂层最外层的低折射率层，和

-至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，它们位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方，并且比率

大于2.1，条件是所述比率R_T计算中所考虑的抗反射涂层的各层仅是位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方的各层。

2.根据权利要求1的光学制品，其中所述条件是所述比率R_T计算中所考虑的抗反射涂层的各层仅是位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最远的抗反射涂层最外层的低折射率层上方的各层，并且抗反射涂层不包括含铌(Nb)亚层。

3.根据权利要求1或2的光学制品，其中R_T大于或等于2.15。

4.根据权利要求3的光学制品，其中R_T大于或等于2.2。

5.根据权利要求4的光学制品，其中R_T大于或等于2.25。

6.根据权利要求5的光学制品，其中R_T大于或等于2.3。

7.根据权利要求1或2的光学制品，其临界温度≥75℃。

8.根据权利要求1或2的光学制品，其中抗反射涂层的高折射率层包含选自TiO₂、PrTiO₃、ZrO₂及其混合物的至少一种材料。

9.根据权利要求1或2的光学制品，其中抗反射叠层的至少一个高折射率层包含TiO₂。

10.根据权利要求1或2的光学制品，其中抗反射叠层的至少一个低折射率层包含SiO₂和Al₂O₃的混合物。

11.根据权利要求1或2的光学制品，其中抗反射涂层的所有低折射率层都包含SiO₂和Al₂O₃的混合物，条件是如果所述抗反射涂层包括具有至少一个低折射率层的亚层，则所述亚层的所述至少一个低折射率层不包含SiO₂和Al₂O₃的混合物。

12.根据权利要求1或2的光学制品，其中抗反射涂层包括亚层。

13.根据权利要求12的光学制品，其中亚层是基于SiO₂的不含Al₂O₃的单层亚层。

14.根据权利要求12的光学制品，其中亚层是由如下层构成的多层亚层：

-一层由SiO₂构成的层；以及

-插在所述由SiO₂构成的层与光学制品基材之间的至多3层。

15.根据权利要求12的光学制品，其中亚层由至少一种金属或金属氧化物的薄层构成，所述薄层厚度为10nm或更小。

16.根据权利要求1或2的光学制品，其中抗反射涂层包括至少一个导电层。

17.根据权利要求16的光学制品，其中导电层由选自铟氧化物、锡氧化物、锌氧化物及其混合物的材料制得。