[发明专利]在基材上形成功能材料图案的方法无效
| 申请号： | 200780031171.9 | 申请日： | 2007-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN101505969A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | G·B·布朗谢特;李喜现 | 申请（专利权）人： | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号： | B41M3/00 | 分类号： | B41M3/00;B41F17/00;H01L51/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种在用于电子器件和元件的基材上形成功能材料的图案的方法。该方法使用具有浮雕结构的压模，将掩模材料转移至基材并在基材上形成敞开区域的图案。至少在敞开区域中将功能材料施用至基材。从基材上除去掩模材料，在基材上形成功能材料的图案。该方法适合于制造用于电子器件和元件的微线路。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 形成 功能 材料 图案 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种在基材上形成功能材料的图案的方法，该方法包括：a)提供具有凸起表面的浮雕结构的弹性压模；b)至少在浮雕结构的凸起表面上施用掩模材料；c)将掩模材料从凸起表面转移至基材，在基材上形成敞开区域的图案；和d)在基材的敞开区域施用功能材料，以形成图案。
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