[发明专利]在基材上形成功能材料图案的方法无效
| 申请号: | 200780031171.9 | 申请日: | 2007-08-08 |
| 公开(公告)号: | CN101505969A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
| 发明(设计)人: | G·B·布朗谢特;李喜现 | 申请(专利权)人: | E.I.内穆尔杜邦公司 |
| 主分类号: | B41M3/00 | 分类号: | B41M3/00;B41F17/00;H01L51/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
| 地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基材 形成 功能 材料 图案 方法 | ||
1.一种在基材上形成功能材料的图案的方法,该方法包括:
a)提供具有凸起表面的浮雕结构的弹性压模;
b)至少在浮雕结构的凸起表面上施用掩模材料;
c)将掩模材料从凸起表面转移至基材,在基材上形成敞开区域的图案;和
d)在基材的敞开区域施用功能材料,以形成图案。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,该方法在步骤d)之后还包括以下步骤:
e)从基材除去掩模材料。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤e)包括将步骤d)中形成的基材置于用于掩模材料的溶剂的浴液中。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,该方法还包括对浴液施加声波。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述功能材料在溶液中,该方法还包括进行干燥,在基材上形成功能材料的膜。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述功能材料选自下组:导体、半导体、介电材料或者它们的组合。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述功能材料包括纳米颗粒。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒的直径为3-100纳米。
9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒在液体载剂中。
10.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒选自下组:导体、介电体、半导体或者它们的组合。
11.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒包含选自下组的金属:银、金、铜、钯、氧化铟锡或者它们的组合。
12.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒是选自下组的半导体纳米颗粒:硅、锗、砷化镓、氧化锌、硒化锌或者它们的组合。
13.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒是量子点。
14.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述纳米颗粒选自下组:碳纳米管、导电碳纳米管、半导体碳纳米管或者它们的组合。
15.如权利要求1所述的方法,其特征在于,功能材料包括在液体载剂中的金属纳米颗粒,该方法还包括加热基材上的纳米颗粒。
16.如权利要求1所述的方法,其特征在于,施用功能材料的步骤d)采用选自下组的方式进行:注射、灌注、液体浇铸、喷射、浸渍、喷雾、气相沉积或者涂覆。
17.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述掩模材料包括液体中的聚合物材料,所述方法还包括除去液体,足以至少在凸起表面上形成掩模材料的膜。
18.如权利要求1所述的方法,其特征在于,施用掩模材料的步骤b)采用选自下组的方式进行:注射、灌注、液体浇铸、喷射、浸渍、喷雾、气相沉积或者涂覆。
19.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述掩模材料在溶液中,该方法还包括进行干燥,形成在压模的凸起表面上的掩模材料层。
20.如权利要求1所述的方法,其特征在于,基材上掩模材料的厚度为
21.如权利要求1所述的方法,其特征在于,掩模材料选自下组:丙烯腈-丁二烯弹性体;聚(丙烯腈);苯乙烯均聚物或共聚物;丙烯酸酯的均聚物或共聚物、甲基丙烯酸酯的均聚物或共聚物;聚碳酸酯;聚氨酯;聚噻吩;取代或未取代的聚亚苯基-亚乙烯基均聚物或共聚物;聚(4-乙烯基吡啶);聚(异氰酸正己酯);聚(1,4-亚苯基亚乙烯基);基于环氧化物的体系;聚(正咔唑);聚降冰片烯的均聚物或共聚物;聚(苯醚);聚(苯硫醚);聚(四氟乙烯);醇酸树脂;明胶;聚(丙烯酸);多肽;蛋白质;聚(乙烯基吡啶);聚(乙烯基吡咯烷酮);羟基聚苯乙烯;聚(乙烯醇);聚乙二醇;脱乙酰壳多糖;(苯乙烯-乙烯基吡啶)共聚物;(丙烯酸丁酯-乙烯基吡啶)共聚物;芳基胺或氟化的芳基胺;纤维素或纤维素衍生物;丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯乳液的分散体;或者它们的共聚物和组合。
22.如权利要求1所述的方法,其特征在于,功能材料与掩模材料不相容。
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