[发明专利]光学层积体的制造方法、制造装置、光学层积体、偏振片及图像显示装置有效
| 申请号： | 200780030685.2 | 申请日： | 2007-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN101506691A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 古井玄;岩田行光;儿玉崇;西村佳泰;三上豪一 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;B32B7/02;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学层积体的制造方法、制造装置、光学层积体、偏振片及图像显示装置。本发明提供能够同时得到防眩性、防止晃眼、亮黑感等黑色再现性等性质的光学层积体的制造方法及其制造装置。该光学层积体的制造方法为具有透光性基材和形成在该透光性基材上的防眩层的光学层积体的制造方法，其中，该制造方法包括在上述透光性基材上形成具有凹凸形状的上述防眩层的步骤，在上述凹凸形状中，当将上述光学层积体表面的凹凸的平均间隔设为Sm、凹凸部的平均倾斜角设为θa、凹凸的平均粗糙度设为Rz时，Sm为50μm以上且小于100μm、θa为0.1度～1.0度、Rz大于0.2μm且为1.0μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层积 制造 方法 装置 偏振 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1. 一种光学层积体的制造方法，该制造方法为制造具有透光性基材和形成在该透光性基材上的防眩层的光学层积体的方法，其特征在于，该制造方法包括在所述透光性基材上形成具有凹凸形状的所述防眩层的步骤，所述凹凸形状中，当将所述光学层积体表面的凹凸的平均间隔设为Sm、凹凸部的平均倾斜角设为θa、凹凸的平均粗糙度设为Rz时，Sm为50μm以上且小于100μm，θa为0. 1度～1.0度，Rz大于0. 2μm且为1.0μm以下。
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