[发明专利]借助于电子改变三维成型件的特性的装置和方法以及所述方法的应用有效
| 申请号： | 200780009686.9 | 申请日： | 2007-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101416267A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | R·巴特尔;V·柯克霍夫;G·马陶什;O·罗德;J·库巴什 | 申请（专利权）人： | 弗劳恩霍弗实用研究促进协会 |
| 主分类号： | H01J33/00 | 分类号： | H01J33/00;A61L2/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曹 若;梁 冰 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于借助于电子来改变三维成型件(2)的特性的一种装置和一种方法，所述装置包括至少一个用于产生加速的电子的电子加速器(3a、3b)和两个电子逸出窗(5a、5b)，其中所述两个电子逸出窗(5a、5b)彼此对置布置，其中所述两个电子逸出窗(5a、5b)和至少一个反射器(7a1、7a2、7b1、7b2)限制着处理室，在该处理室中向所述成型件(2)的表面或者边缘层加载电子，其中借助于传感器系统能够至少关于一个空间的维检测所述处理室内部的能量密度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 借助于 电子 改变 三维 成型 特性 装置 方法 以及 应用 | ||
【主权项】：
1. 用于借助于电子改变三维成型件(2)的特性的装置，包括至少一个用于产生加速的电子的电子加速器(3a；3b)和两个电子逸出窗(5a；5b)，其中所述两个电子逸出窗(5a、5b)彼此对置布置，其特征在于，所述两个电子逸出窗(5a；5b)和至少一个反射器(7a1；7a2；7b1；7b2)限制着处理室，在该处理室中能够向所述成型件(2)的表面或者边缘层加载电子，其中借助于传感器系统能够至少关于一个空间的维检测在所述处理室内部的能量密度分布。
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