[发明专利]存储元件以及半导体器件有效

专利信息
申请号: 200780008401.X 申请日: 2007-02-28
公开(公告)号: CN101401209A 公开(公告)日: 2009-04-01
发明(设计)人: 汤川干央;杉泽希 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/28 分类号: H01L27/28;H01L29/786;H01L27/10;H01L51/05
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 李 玲
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的一个目的在于减少各存储元件性态的变化。此外,本发明的另一个目的是获得其上装有存储元件的、性能和可靠性方面优越的半导体器件。本发明的存储元件在其结构中包括第一导电层、半导体层、有机化合物层、以及第二导电层,其中半导体层和有机化合物层夹在第一导电层和第二导电层之间,且半导体层被形成为与第一导电层和/或第二导电层相接触。使用这种结构,各存储元件性态中的变化减少。
搜索关键词: 存储 元件 以及 半导体器件
【主权项】:
1. 一种存储元件,包括:第一导电层;半导体层;有机化合物层;以及第二导电层,其中所述半导体层和所述有机化合物层夹在所述第一导电层和所述第二导电层之间,且其中所述半导体层与所述第一导电层相接触。
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