[发明专利]光学记录介质有效
| 申请号: | 200780008367.6 | 申请日: | 2007-03-02 |
| 公开(公告)号: | CN101400522A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
| 发明(设计)人: | 出口浩司;日比野荣子;大仓浩子;伊藤和典;让原肇;岩佐博之 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
| 主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;G11B7/24;G11B7/243;G11B7/254;G11B7/257 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵蓉民;路小龙 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 具有第一保护层、记录层、第二保护层和反射层的光学记录介质,其中记录层含有式(1-1)、式(1-2)或式(1-3)表示的相变材料;第二保护层含有一种选自氧化锌、氧化铟、氧化锡、它们的混合物、式(2)的材料和式(3)的材料的材料。式(1-1):Inα1Sbβ1X1γ1(X1:Ge、Te、Zn、Mn或它们的混合物,0.10≤α1≤0.25、0.65≤β1≤0.80和0.04≤γ1≤0.15);式(1-2):Gaα2Sbβ2Snγ2Geδ2X2ε2(X2:Te、Zn、Mn、In或它们的混合物,0.04≤α2≤0.09、0.56≤β2≤0.79、0.05≤γ2≤0.30、0.03≤δ2≤0.19和0≤ε2≤0.09);式(1-3):Mnα3Sbβ3Snγ3Geδ3X3ε3(X3:Te、In、Zn、Bi或它们的混合物,0.04≤α3≤0.09、0.56≤β3≤0.79、0.05≤γ3≤0.29、0.03≤δ3≤0.23和0≤ε3≤0.09);式(2):ZnO-Al-Y[(100-α4-β4):α4:β4](Y:Mn、Ge、Ti或它们的混合物,0.5≤α4≤10.0和0≤β4≤25.0);式(3):ZnO-Al2O3-Z[(100-α5-β5):α5:β5](Z:氧化锰、氧化锗、二氧化钛或它们的混合物,0.5≤α5≤10.0和0≤β5≤30.0)。 | ||
| 搜索关键词: | 光学 记录 介质 | ||
【主权项】:
1. 光学记录介质,包括:第一保护层,记录层,第二保护层,和反射层,当从用于记录和复制的激光束照射一侧观看时,这些层以该顺序形成,其中所述记录层包含由下列组成式(1-1)、组成式(1-2)和组成式(1-3)中任一种表示的相变材料;和所述第二保护层包含选自氧化锌、氧化铟、氧化锡及其混合物、由下列组成式(2)表示的材料和由下列组成式(3)表示的材料中的至少一种,Inα1Sbβ1X1γ1---组成式(1-1)其中X1是选自Ge、Te、Zn和Mn的至少一种;α1、β1和γ1分别表示原子比,其中0.10≤α1≤0.25、0.65≤β1≤0.80和0.04≤γ1≤0.15,Gaα2Sbβ2Snγ2Geδ2X2ε2---组成式(1-2)其中X2是选自Te、Zn、Mn和In的至少一种;α2、β2、γ2、δ2和ε2分别表示原子比,其中0.04≤α2≤0.09、0.56≤β2≤0.79、0.05≤γ2≤0.30、0.03≤δ2≤0.19和0≤ε2≤0.09,Mnα3Sbβ3Snγ3Geδ3X3ε3---组成式(1-3)其中X3是选自Te、In、Zn和Bi的至少一种;α3、β3、γ3、δ3和ε3分别表示原子比,其中0.04≤α3≤0.09、0.56≤β3≤0.79、0.05≤γ3≤0.29、0.03≤δ3≤0.23和0≤ε3≤0.09,ZnO-Al-Y[(100-α4-β4):α4:β4]---组成式(2)其中Y是选自Mn、Ge和Ti的至少一种;α4和β4分别表示质量百分比,其中0.5≤α4≤10.0和0≤β4≤25.0,ZnO-Al2O3-Z[(100-α5-β5):α5:β5]---组成式(3)其中Z表示氧化锰、氧化锗、二氧化钛及其混合物中的任一种;α5和β5分别表示质量百分比,其中0.5≤α5≤10.0和0≤β5≤30.0。
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