[发明专利]光学记录介质

权利要求书

1.光学记录介质，包括：

第一保护层，

记录层，

第二保护层，和

反射层，

当从用于记录和复制的激光束照射一侧观看时，这些层以该顺序形成，

其中所述记录层包含由下列组成式(1-1)、组成式(1-2)和组成式(1-3)中任一 种表示的相变材料；和所述第二保护层包含选自氧化锌、氧化铟、氧化锡及其混 合物、由下列组成式(2)表示的材料和由下列组成式(3)表示的材料中的至少一种，

In_α1Sb_β1X1_γ1---组成式(1-1)

其中X1是选自Ge、Te、Zn和Mn的至少一种；α1、β1和γ1分别表示原 子比，其中0.10≤α1≤0.25、0.65≤β1≤0.80和0.04≤γ1≤0.15，

Ga_α2Sb_β2Sn_γ2Ge_δ2X2_ε2---组成式(1-2)

其中X2是选自Te、Zn、Mn和In的至少一种；α2、β2、γ2、δ2和ε2分别 表示原子比，其中0.04≤α2≤0.09、0.56≤β2≤0.79、0.05≤γ2≤0.30、0.03≤δ2≤0.19和 0≤ε2≤0.09，

Mn_α3Sb_β3Sn_γ3Ge_δ3X3_ε3---组成式(1-3)

其中X3是选自Te、In、Zn和Bi的至少一种；α3、β3、γ3、δ3和ε3分别 表示原子比，其中0.04≤α3≤0.09、0.56≤β3≤0.79、0.05≤γ3≤0.29、0.03≤δ3≤0.23和 0≤ε3≤0.09，

ZnO-Al-Y[(100-α4-β4)∶α4∶β4]---组成式(2)

其中Y是选自Mn、Ge和Ti的至少一种；α4和β4分别表示质量百分比， 其中0.5≤α4≤10.0和0≤β4≤25.0，

ZnO-Al₂O₃-Z[(100-α5-β5)∶α5∶β5]---组成式(3)

其中Z表示氧化锰、氧化锗、二氧化钛及其混合物中的任一种；α5和β5 分别表示质量百分比，其中0.5≤α5≤10.0和0≤β5≤30.0，

其中所述第二保护层的电阻率为1.0×10^-4Ω·cm到1.0×10¹Ω·cm。

2.根据权利要求1所述的光学记录介质，进一步包括透明基底，其中当从用于 记录和复制的激光束照射一侧观看时，至少所述第一保护层、所述记录层、所述 第二保护层和所述反射层以该顺序在所述透明基底上形成。

3.根据权利要求1所述的光学记录介质，进一步包括透明覆盖层，其中当从 用于记录和复制的激光束照射一侧观看时，所述透明覆盖层、所述第一保护层、 所述记录层、所述第二保护层和所述反射层以该顺序在基底上形成。

4.根据权利要求1到3任一项所述的光学记录介质，其中所述记录层包含由 由下列组成式(1-1)表示的相变材料；并且所述第二保护层包含选自氧化锌、氧化 铟、氧化锡和它们的混合物中的至少一种，

In_α1Sb_β1X1_γ1---组成式(1-1)

其中X1是选自Ge、Te、Zn和Mn的至少一种；α1、β1和γ1分别表示原 子比，其中0.10≤α1≤0.25、0.65≤β1≤0.80和0.04≤γ1≤0.15。