[实用新型]用于晶圆边缘曝光的光栅有效
| 申请号： | 200720070546.X | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN201083962Y | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 李德君 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于晶圆边缘曝光的光栅。采用现有的光栅结构进行晶圆边缘曝光，存在曝光时间较长，产量低的问题。本实用新型的光栅具有一透光的光栅图形，该光栅图形是一扇环，其侧边由两条同心圆弧构成。在晶圆边缘曝光过程中，所述光栅图形曲率半径较大的一条圆弧在晶圆上的投影落在晶圆的边缘上，另一条圆弧的投影落在晶圆边缘的内侧，光栅图形的长度为3～8毫米。采用本实用新型的光栅，在不改变其他参数且确保晶圆边缘曝光制程达到能量和宽度要求的同时，可有效缩短曝光时间，从而提高产量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 边缘 曝光 光栅 | ||
【主权项】：
1.一种用于晶圆边缘曝光的光栅，其具有一透光的光栅图形，其特征在于：所述的光栅图形是一扇环，其侧边由两条同心圆弧构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200720070546.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
