[实用新型]用于晶圆边缘曝光的光栅有效
| 申请号： | 200720070546.X | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN201083962Y | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 李德君 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 边缘 曝光 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于晶圆边缘曝光的光栅，其具有一透光的光栅图形，其特征在于：所述的光栅图形是一扇环，其侧边由两条同心圆弧构成。
2.如权利要求1所述的用于晶圆边缘曝光的光栅，其特征在于：在晶圆边缘曝光过程中，所述光栅图形曲率半径较大的一条圆弧在晶圆上的投影落在晶圆的边缘上，另一条圆弧的投影落在晶圆边缘的内侧。
3.如权利要求1所述的用于晶圆边缘曝光的光栅，其特征在于：所述光栅图形的宽度等于晶圆边缘曝光制程所要求去除的光阻宽度。
4.如权利要求1所述的用于晶圆边缘曝光的光栅，其特征在于：所述光栅图形的长度为3～8毫米。
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