[实用新型]半导体激光照射装置无效

专利信息
申请号: 200720067907.5 申请日: 2007-03-16
公开(公告)号: CN201006196Y 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 周国诚;夏常文 申请(专利权)人: 上海得邦得力激光技术有限公司
主分类号: A61N5/067 分类号: A61N5/067
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 吴宝根
地址: 201206上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种半导体激光照射装置,包括光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜,其特点是:该装置还包括半导体激光光源,激光光源上面依次设置光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜;整形光路系统把条状的半导体激光转变为矩形、圆形,然后通过可变扩束光路系统及反射镜发射到照射目标;半导体激光为530nm-650nm的工作激光。本实用新型由于采用了半导体激光器作为照射光源,从而降低了造价,缩小了体积,减轻了重量,使用方便。
搜索关键词: 半导体 激光 照射 装置
【主权项】:
1.一种半导体激光照射装置,包括光学整形系统(2),光学扩束系统(3),激光反射镜(4),其特征在于,该装置还包括半导体激光光源(1),激光光源(1)上面依次设置光学整形系统(2),光学扩束系统(3),激光反射镜(4);整形光路系统(2)把条状的半导体激光(1)转变为矩形、圆形,然后通过可变扩束光路系统(3)及反射镜(4)发射到照射目标。
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