[实用新型]半导体激光照射装置无效

专利信息
申请号: 200720067907.5 申请日: 2007-03-16
公开(公告)号: CN201006196Y 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 周国诚;夏常文 申请(专利权)人: 上海得邦得力激光技术有限公司
主分类号: A61N5/067 分类号: A61N5/067
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 吴宝根
地址: 201206上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 激光 照射 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种可见半导体激光的照射装置,通过此装置半导体激光可对人体的部位进行照射。

背景技术

目前常用的激光照射器是气体激光,如:He-Ne和CO2,这些的安装装置体积大、分量重、寿命短。半导体激光是新出现的一种固体激光,它能克服以上缺点。

发明内容

本实用新型是要提供一种半导体激光照射装置,该装置具有体积小,分量轻,寿命长,使用方便等特点。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种半导体激光照射装置,包括光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜,其特点是:该装置还包括半导体激光光源,激光光源上面依次设置光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜;整形光路系统把条状的半导体激光转变为矩形、圆形,然后通过可变扩束光路系统及反射镜发射到照射目标。

半导体激光为530nm-650nm的工作激光。

本实用新型由于采用了半导体激光器作为照射光源,从而降低了造价,缩小了体积,减轻了重量。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。如图1所示,本实用新型的一种半导体激光照射装置,它包括:半导体激光光源1、光学整形系统2、光学扩束系统3、光学反射系统4。

半导体激光源1上面依次设置光学整形系统2,光学扩束系统3,激光反射镜4。

半导体激光为530nm-650nm工作激光,半导体激光光源1通过一套整形光学系统2及可变扩束装置3来改变光斑的大小,通过反射镜4达到对人体实行照射的目的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海得邦得力激光技术有限公司,未经上海得邦得力激光技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720067907.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top