[实用新型]半导体激光照射装置无效
申请号: | 200720067907.5 | 申请日: | 2007-03-16 |
公开(公告)号: | CN201006196Y | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | 周国诚;夏常文 | 申请(专利权)人: | 上海得邦得力激光技术有限公司 |
主分类号: | A61N5/067 | 分类号: | A61N5/067 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 201206上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 激光 照射 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种可见半导体激光的照射装置,通过此装置半导体激光可对人体的部位进行照射。
背景技术
目前常用的激光照射器是气体激光,如:He-Ne和CO2,这些的安装装置体积大、分量重、寿命短。半导体激光是新出现的一种固体激光,它能克服以上缺点。
发明内容
本实用新型是要提供一种半导体激光照射装置,该装置具有体积小,分量轻,寿命长,使用方便等特点。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
一种半导体激光照射装置,包括光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜,其特点是:该装置还包括半导体激光光源,激光光源上面依次设置光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜;整形光路系统把条状的半导体激光转变为矩形、圆形,然后通过可变扩束光路系统及反射镜发射到照射目标。
半导体激光为530nm-650nm的工作激光。
本实用新型由于采用了半导体激光器作为照射光源,从而降低了造价,缩小了体积,减轻了重量。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。如图1所示,本实用新型的一种半导体激光照射装置,它包括:半导体激光光源1、光学整形系统2、光学扩束系统3、光学反射系统4。
半导体激光源1上面依次设置光学整形系统2,光学扩束系统3,激光反射镜4。
半导体激光为530nm-650nm工作激光,半导体激光光源1通过一套整形光学系统2及可变扩束装置3来改变光斑的大小,通过反射镜4达到对人体实行照射的目的。
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