[发明专利]磁头与磁盘设备无效

专利信息
申请号: 200710198868.7 申请日: 2007-12-14
公开(公告)号: CN101206866A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 船山知己 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/39 分类号: G11B5/39;G11B5/31;H01L43/08
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;李峥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及磁头与磁盘设备。磁头包含:磁阻元件,其具有在轨道方向上循序布置的第一自旋阀层(31)、偏置层(33)、第二自旋阀层(32),第一自旋阀层(31)具有包含铁磁性膜的第一磁化自由层(14)、包含具有固定磁化方向的铁磁性膜的第一磁化固定层(12)以及布置在第一磁化自由层(14)与第一磁化固定层(12)之间的第一非磁性中间层(13),偏置层(33)具有在与轨道方向正交的轨道宽度方向上向第一磁化自由层(14)以及第二磁化自由层(18)施加偏置磁场的磁性层(16),第二自旋阀层(32)具有包含铁磁性膜的第二磁化自由层(18)、包含具有固定磁化方向的铁磁性膜的第二磁化固定层(20)以及布置在第二磁化自由层(18)与第二磁化固定层(20)之间的第二非磁性中间层(19);一对电极,其使具有几乎平行于轨道方向的电流流入磁阻元件。
搜索关键词: 磁头 磁盘 设备
【主权项】:
1.一种磁头,其特征在于包含:磁阻元件,其具有与信息在轨道方向上被磁记录于其上的介质相对的气垫表面,且其具有在所述轨道方向上循序布置的第一自旋阀层、偏置层、第二自旋阀层,第一自旋阀层具有包含铁磁性膜的第一磁化自由层、包含具有固定磁化方向的铁磁性膜的第一磁化固定层以及布置在第一磁化自由层与第一磁化固定层之间的第一非磁性中间层,第二自旋阀层具有包含铁磁性膜的第二磁化自由层、包含具有固定磁化方向的铁磁性膜的第二磁化固定层以及布置在第二磁化自由层与第二磁化固定层之间的第二非磁性中间层,偏置层具有在与所述轨道方向正交的轨道宽度方向上向所述第一磁化自由层以及所述第二磁化自由层施加偏置磁场的磁性层;以及一对电极,其使具有几乎平行于所述轨道方向的方向的电流流入所述磁阻元件。
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