[发明专利]垂直非挥发存储单元、阵列及其操作方法有效
申请号: | 200710192799.9 | 申请日: | 2007-11-20 |
公开(公告)号: | CN101388394A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 欧天凡;蔡文哲;高瑄苓;廖意瑛 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L29/423;H01L29/78;G11C16/02;G11C16/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是一种垂直非挥发存储单元,其具有一电荷存储结构,包含一具有三个节点的电荷控制结构。实施例包含单个存储单元、所述存储单元的阵列、操作所述存储单元或所述存储单元阵列的方法。 | ||
搜索关键词: | 垂直 挥发 存储 单元 阵列 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
1. 一种存储数据的非挥发存储装置集成电路,其特征在于,包含:一个或多个电荷存储结构,其具有一第一位置以存储一第一电荷存储状态及一第二位置以存储一第二电荷存储状态,所述第一电荷存储状态及所述第二电荷存储状态代表所述数据使得所述第一电荷存储状态及所述第二电荷存储状态分别代表所述数据的至少一位;一个或多个存储介电结构,其至少部分位于所述一个或多个电荷存储结构的所述第一位置与一电荷控制结构之间,至少部分位于所述一个或多个电荷存储结构的所述第二位置与所述电荷控制结构之间,至少部分位于所述一个或多个电荷存储结构的所述第一位置与一栅极电压源之间,且至少部分位于所述一个或多个电荷存储结构的所述第二位置与所述栅极电压源之间;所述电荷控制结构具有:一第一节点,其具有一第一电荷极性;一第二节点,其具有与所述第一电荷极性相反的一第二电荷极性;一第三节点,其具有所述第一电荷极性;一第一接面分隔所述第一节点与所述第二节点,所述第一接面邻近于所述一个或多个存储介电结构的一部分,至少部分介于所述一个或多个电荷存储结构的所述第一位置与所述电荷控制结构之间;一第二接面分隔所述第二节点与所述第三节点,所述第二接面邻近于所述一个或多个存储介电结构的一部分,至少部分介于所述一个或多个电荷存储结构的所述第二位置与所述电荷控制结构之间;其中所述电荷控制结构是相对于所述集成电路的一衬底垂直地安置,所以在所述非挥发存储装置的一剖面上,所述第二节点与所述第三节点较所述第一节点更远离所述衬底,且所述第三节点较所述第二节点更远离所述衬底。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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