[发明专利]用于设计掩模的方法和设备有效
| 申请号： | 200710186634.0 | 申请日： | 2007-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101192252A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | I·格罗尔;Z·鲍姆;S·M·曼斯费尔德;L·W·利布曼 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;李峥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种用于设计用于制造集成电路的掩模的方法，其中将需要着色的掩模版图例如交替相移、双－曝光和双－曝光－蚀刻掩模，组织为未着色的层次设计单元。在通过OPC修改之前，局部着色每一个层次设计单元。然后在局部着色的层次设计单元上进行OPC。丢弃用于层次配置的OPC修改的设计单元的局部着色信息。在OPC修改之后，在所述掩模版图中设置未着色的OPC修改的设计单元，以及着色展平的数据。这样，由于在层次数据上进行数字密集的OPC，避免了在展平的数据上进行OPC，而在展平的数据上进行较低密集的全面着色，所以显著改善了掩模设计的周转时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 设计 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于设计掩模的方法，包括以下步骤：提供包括层次设计单元的多个实例的配置的设计版图，所述层次设计单元包括将着色的未着色的形状；在所述层次设计单元内局部着色所述未着色的形状以形成局部着色的设计单元；在所述局部着色的设计单元上进行光学邻近校正(OPC)以形成OPC修改的层次设计单元；丢弃所述OPC修改的设计单元的所述局部着色以形成未着色的OPC修改的层次设计单元；配置所述未着色的OPC修改的设计单元以根据所述配置形成修改的设计版图；以及全局着色所述修改的设计版图。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司，未经国际商业机器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710186634.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：组电池
- 下一篇：用于购买和销售事件门票的系统和方法
