[发明专利]工件台平衡质量定位系统

摘要

本发明为一种工件台平衡质量定位系统，用于光刻机中工件台的减振，其包括X向和Y向长行程模块，以实现硅片承载台相对于系统框架在X、Y两个方向上的独立运动；纠偏和防漂装置，用于补偿平衡质量系统框架在X、Y和Rz向的位置漂移；及垂向微调及重力补偿装置，安装在X向和Y向长行程模块上与承载微动台之间，用以支撑硅片承载微动台几乎全部的静态重量，并兼有z、Rx、Ry三方向自由度的微调整功能。本发明针对光刻大直径硅片的曝光系统，在工件台中采用平衡质量方式，以减小和消除水平向的运动反力以及系统重心变化对曝光系统造成的不利影响；采用特殊设计的垂向微调及重力补偿装置，确保了硅片承载微动台的垂向减振隔振和精密定位功能。

主权项

1.一种工件台平衡质量定位系统，应用于光刻机中对系统工件台的减振，其包括系统框架、基础框架、硅片承载台、气浮系统、及运动限位装置，该系统框架通过该气浮系统相对该基础框架运动，该运动限位装置位于该系统框架的四个角点位置用以圈定该定位系统在该基础框架上作平面运动的极限位置，其特征在于进一步包括：X向和Y向长行程模块，以实现上述硅片承载台相对于上述系统框在X、Y两个方向上的独立运动；纠偏和防漂装置，用于补偿平衡质量系统框架在X向、Y向和Rz向的位置漂移；及垂向微调及重力补偿装置，安装在上述X向和Y向长行程模块上与该承载微动台之间，用以支撑硅片承载微动台几乎全部的静态重量，并兼有z、Rx、Ry三方向自由度的微调整功能。