[发明专利]硼硅酸盐玻璃体上制备耐磨抗反射膜的方法和涂膜溶液无效
申请号: | 200710170128.2 | 申请日: | 2007-08-31 |
公开(公告)号: | CN101182130A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | D·特拉普;S·特拉茨基 | 申请(专利权)人: | 肖特股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/23 | 分类号: | C03C17/23;C03C3/091 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温宏艳;林森 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明描述了一种在硼硅酸盐玻璃体上制备耐磨抗反射膜的方法,在该方法中,使用了一种组成如下的涂膜溶液:1~6重量%HCl、0.5~7重量%SiO2溶胶(固含量)、0.5~5重量%H2O、85~98重量%易挥发水溶性有机溶剂。适于涂覆的玻璃含有(以氧化物基的重量%计)70~75SiO2、8~11B2O3、5~9Al2O3、7~12碱金属氧化物、0~10碱土金属氧化物。 | ||
搜索关键词: | 硅酸盐 玻璃体 制备 耐磨 反射 方法 溶液 | ||
【主权项】:
1.一种在硼硅酸盐玻璃体上形成附着力强并耐磨的、含多孔SiO2的抗反射膜的方法,其特征在于,通过下列步骤-将含有下列组分70~75 SiO2 8~11 B2O3 5~9 Al2O3 7~12 碱金属氧化物0~10 碱土金属氧化物的待涂膜玻璃体(以氧化物基的重量%计)用涂膜溶液浸润,-该溶液含有1.0~6.0重量%HCl、0.5~7.0重量%SiO2溶胶(固含量)、0.5~5重量%H2O85~98重量%易挥发水溶性有机溶剂以及-干燥并煅烧所得膜层。
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