[发明专利]硼硅酸盐玻璃体上制备耐磨抗反射膜的方法和涂膜溶液

权利要求书

1.一种在硼硅酸盐玻璃体上形成附着力强并耐磨的、含多孔SiO₂的抗反射膜的方法，其特征在于，通过下列步骤

-将含有下列组分

70～75    SiO₂

8～11     B₂O₃

5～9      Al₂O₃

7～12     碱金属氧化物

0～10     碱土金属氧化物

的待涂膜玻璃体(以氧化物基的重量％计)用涂膜溶液浸润，

-该溶液含有

1.0～6.0重量％HCl、

0.5～7.0重量％SiO₂溶胶(固含量)、

0.5～5重量％H₂O

85～98重量％易挥发水溶性有机溶剂

以及

-干燥并煅烧所得膜层。

2.权利要求1所述的方法，其特征在于，使用含有下列组分的涂膜溶液

1.0～6.0重量％HCl、

0.5～7.0重量％SiO₂溶胶(固含量)、

0.5～5.0重量％H₂O

85～98重量％甲醇及/或乙醇及/或丙醇及/或丁醇及/或二甲酮及/或甲基乙基酮。

3.权利要求1或2所述的方法，其特征在于，将待涂膜玻璃体在所述涂膜溶液中浸润。

4.权利要求3所述的方法，其特征在于，以1～100mm·s^-1的速度，尤其以1～20mm·s^-1的速度除去浸渍溶液。

5.权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述硼硅酸盐玻璃体含有(以氧化物基的重量％计)

70～75    SiO₂、

8～11    B₂O₃、

6～8     Al₂O₃、

6～8     Na₂O、

1～4     K₂O、

7～12    ∑碱金属氧化物、

0～2     CaO。

6.在硼硅酸盐玻璃上形成抗反射膜的涂膜溶液，其含有

1.0～6.0重量％HCl、

0.5～7.0重量％SiO₂溶胶(固含量)、

0.5～5重量％H₂O

85～98重量％易挥发水溶性有机溶剂。

7.权利要求5所述的涂膜溶液，其特征在于，其含有

1.0～6.0重量％HCl、

0.5～7.0重量％SiO₂％溶胶(固含量)、

0.5～5重量％H₂O

85～95重量％甲醇及/或乙醇及/或丙醇及/或丁醇及/或二甲酮及/或甲基乙基酮。