[发明专利]在工件的轮廓上形成保护层的方法无效

专利信息
申请号: 200710166913.0 申请日: 2007-10-26
公开(公告)号: CN101418435A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: 林新智;陈敏璋 申请(专利权)人: 林新智;陈敏璋
主分类号: C23C16/00 分类号: C23C16/00;C23C16/06;C23C16/30;C23C16/56
代理公司: 上海虹桥正瀚律师事务所 代理人: 李佳铭
地址: 中国台湾台北县板桥市玉*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种在一工件的一轮廓上形成一保护层的方法。所述工件由至少一金属及/或至少一合金制成。本发明的方法是通过一原子层沉积制程及/或一电浆增强原子层沉积制程(或一电浆辅助原子层沉积制程),在所述工件的所述轮廓上形成一无机层,其中所述无机层即作为所述保护层。
搜索关键词: 工件 轮廓 形成 保护层 方法
【主权项】:
1、一种在一工件的一轮廓上形成一保护层的方法,其特征在于,所述工件由至少一金属及/或至少一合金制成,所述方法包含下列步骤:通过一原子层沉积制程及/或一电浆增强原子层沉积制程,在所述工件的所述轮廓上形成一无机层,其中所述无机层即作为所述保护层。
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