[发明专利]掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法及显示装置的制造方法有效
| 申请号： | 200710163007.5 | 申请日： | 2007-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101152919A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 井村和久 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | B65D85/00 | 分类号： | B65D85/00;B65D85/30;B65D25/10;G03F1/00;G03F7/20;H01L21/673 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜壳体，该掩膜壳体(1)是一种可运送地收置光掩膜(10)和掩膜盒(100)的掩膜壳体，具备掩膜保持部件(4)和盒保持部件(5)，当从掩膜盒(100)中取出光掩膜(10)时，以光掩膜(10)被设置于掩膜盒(100)的状态取出。 | ||
| 搜索关键词： | 壳体 掩膜盒 图案 转录 方法 显示装置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜壳体，可运送地收置光掩膜、和掩膜盒，该掩膜盒在搭载所述光掩膜来使用的装置中使用，并载置所述光掩膜来使用，其中：当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时，以所述光掩膜被载置于所述掩膜盒的状态取出。
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