[发明专利]掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法及显示装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于光掩膜(下面也称为掩膜)的掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法和显示装置的制造方法，特别是涉及一种在液晶显示面板(LCDP)或等离子体显示面板(PDP)等的制造工序中使用的，运送大型光掩膜并且在使用光掩膜时，便于对曝光装置拆装，并可抑制拆装时的粒子污染或破损等的掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法和显示装置的制造方法。

背景技术

近年来，在LCDP或PDP等显示装置的制造工序中，面板面数的增加作为制造成本降低的方法，被一般化，面板用母基板的尺寸越来越大。与此同时，在LCDP或PDP等显示装置的制造工序中，图案转录中使用的光掩膜也越来越大。另外，上述大型化的光掩膜，当从掩膜制造商运输到掩膜用户那里时，为了保护运输时不受冲击，以收置固定在掩膜壳体(mask case)内部的状态运输。

作为用于运送、保管光掩膜等掩膜的掩膜壳体，开发出有各种构造的掩膜壳体。

例如，在特开2005-173556号公报中，公开了一种大型精密薄片状(半)制品用密封容器的技术，这种密封容器，由具有彼此抵接的周缘凸缘部的主体部与盖体部构成，用于在内部收置大型精密薄片状(半)制品，其特征在于：主体部与盖体部分别由设置了热可塑性树脂薄片的加固用肋的真空或压空成型体构成。

该较轻量的大型精密薄片状(半)制品用密封容器，以不会对大型精密薄片状(半)制品施加不适当的应力、安全且保持气密的状态，进行收置·支持，运送。

另外，制造光掩膜等掩膜的掩膜制造商，在将制造的掩膜等收置在上述掩膜壳体中的状态下，交货给掩膜用户。

另一方面，掩膜用户使用从掩膜制造商交纳的光掩膜，将期望的图案转录到被转录体上，制造显示装置等。在该制造工序中，掩膜用户以将光掩膜收置在专用掩膜盒(mask cassette)中的状态运送到曝光机(例如掩膜直线对准仪)，或将使用后的光掩膜从曝光机运送到其它设备。另外，大型曝光装置以将光掩膜设置在专用掩膜盒中的状态，在装置内部运送。

上述专用掩膜盒，对应于曝光装置等，使用各种构造的掩膜盒。

例如，特开2000-19720号公报中，公开了一种基板交换装置的技术，该基板交换装置的技术在液晶显示元件或半导体元件的制造工序中使用，自动交换给曝光装置或检查装置等的掩膜、网线或玻璃基板等(统称为掩膜)。另外，该文献中记载了一种防尘用掩膜盒，其在往曝光装置等的掩膜交换过程中使用，装配可读取的管理代码。

该掩膜盒由掩膜盒盖、和以定位的状态载置掩膜的、大致矩形平板状的掩膜盒盘构成。

另外，上述基板交换装置具备掩膜运送机构，该掩膜运送机构保持住从掩膜盒取出的掩膜状态，移动到曝光装置，在曝光装置的大致平板状的搭载台上，搭载掩膜。

但是，如上所述，掩膜制造商以将光掩膜等掩膜收置在掩膜壳体中的状态，将掩膜交货给掩膜用户。因此，掩膜用户为了使用交纳的掩膜，首先要从掩膜壳体中取出掩膜，换入专用的掩膜盒中之后，使用。

但是，随着液晶显示器(LCD)、平板显示器(FPD)、等离子体面板显示器(PDP)、薄膜晶体管基板(TFT)、滤色镜(CF)等的大型化，在其制造中越来越多地使用例如约500mm×750mm或以上的这种大型光掩膜，大型化的倾向更加显著。而且，若用人手执行大型且重量大的光掩膜的操作，则作业者的负载大。

尤其是，掩膜用户如上所述，必需执行如下作业，即从掩膜制造商处收货形成期望图案的光掩膜，从运输用掩膜壳体中将其取出，换入曝光装置用的掩膜盒中。这在考虑到上述大型光掩膜是非常精致的制品，必需对接触或破损极度注意、和越大型则越难以处理等情况时，存在作业者承受的负担过大的问题。

发明内容

鉴于上述问题，本发明的目的在于提供一种掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法和显示装置的制造方法，可容易地执行将掩膜从掩膜壳体换入掩膜盒中的作业。

为了实现上述目的，本发明的掩膜壳体，可运送地收置光掩膜、和掩膜盒，该掩膜盒在搭载所述光掩膜来使用的装置(例如制造装置和/或检查装置等)中使用，并载置所述光掩膜来使用，其中：当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时，以所述光掩膜被载置于所述掩膜盒的状态取出。

据此，掩膜用户的作业者，无需例如将从掩膜制造商处以收置在掩膜壳体中的状态交货的掩膜换入曝光装置等的作业，所以在大幅度减轻作业者的负荷的同时，作业性提高。

另外，可大幅度降低换入作业中误损伤掩膜的危险性，可安全地执行作业。