[发明专利]用于化学机械抛光设备的清洁装置有效
| 申请号： | 200710153828.0 | 申请日： | 2007-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN101386149A | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 孙准晧;徐盛范 | 申请（专利权）人： | 斗山MECATEC株式会社 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B37/04;B24B55/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种用于化学机械设备的清洁装置，该清洁装置包括：与旋转的主轴不可旋转地连接的不可旋转的中心轴，所述不可旋转的中心轴包括形成在所述不可旋转的中心轴内部的第一通道和第二通道，清洁液流入第一通道，压缩气体流入第二通道；以及喷嘴块，所述喷嘴块与主轴连接，从而在抛光垫上面围绕所述不可旋转的中心轴旋转，所述喷嘴块将通过第一通道供给的清洁液和通过第二通道供给的压缩气体混合，从而形成双流体并将混合的双流体压力喷射在抛光垫上。因此，清洁液被加压，从而可以迅速喷射在抛光垫上，所以可以彻底清除抛光垫上的泥浆颗粒和杂质。此外，可以防止晶片刮伤，并且还可以延长抛光垫的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 设备 清洁 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种用于化学机械抛光设备的清洁装置，该清洁装置包括：不可旋转的中心轴，所述不可旋转的中心轴与旋转的主轴不可旋转地连接，所述不可旋转的中心轴包括形成在所述不可旋转的中心轴内部的第一通道和第二通道，清洁液流入第一通道，压缩气体流入第二通道；以及喷嘴块，所述喷嘴块与所述主轴连接，从而在抛光垫上面围绕所述不可旋转的中心轴旋转，所述喷嘴块将通过第一通道供给的清洁液和通过第二通道供给的压缩气体混合，从而形成双流体并将混合的双流体压力喷射在抛光垫上。
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