[发明专利]用于化学机械抛光设备的清洁装置

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光设备的清洁装置，该清洁装置包括： 

不可旋转的中心轴，所述不可旋转的中心轴与旋转的主轴不可旋转地连接，所述不可旋转的中心轴包括形成在所述不可旋转的中心轴内部的第一通道和第二通道，清洁液流入第一通道，压缩气体流入第二通道；以及 

喷嘴块，所述喷嘴块与所述主轴连接，从而在抛光垫上面围绕所述不可旋转的中心轴旋转，所述喷嘴块将通过第一通道供给的清洁液和通过第二通道供给的压缩气体混合，从而形成双流体并将混合的双流体压力喷射在抛光垫上。 

2.根据权利要求1所述的用于化学机械抛光设备的清洁装置，其中，所述喷嘴块包括第一块和第二块，所述第一块通过所述第一通道供给清洁液并将清洁液喷射在抛光垫上，所述第二块通过所述第二通道供给压缩气体并将压缩气体供给到所述第一块，从而迅速地将来自所述第一块的清洁液喷射在抛光垫上。 

3.根据权利要求2所述的用于化学机械抛光设备的清洁装置，其中，所述第一块具有多个喷射口，所述喷射口的喷射区域从抛光垫的中心沿抛光垫的半径方向彼此交迭。 

4.根据权利要求3所述的用于化学机械抛光设备的清洁装置，其中，所述第二块能够向所述第一块的各个喷射口供给压缩气体。 

5.根据权利要求1所述的用于化学机械抛光设备的清洁装置，其中，旋转配件安装在所述喷嘴块与所述不可旋转的中心轴彼此连接的部分。 

6.根据权利要求2至4中任意一项所述的用于化学机械抛光设备的清洁装置，其中，供给到所述第二通道的压缩气体是氮气。

7.根据权利要求6所述的用于化学机械抛光设备的清洁装置，其中，当通过所述第一通道供给的清洁液的供给被切断时，所述第一块仅喷射通过所述第二通道供给的氮气。