[发明专利]非接触型可改写记录介质的记录方法有效
| 申请号： | 200710153642.5 | 申请日： | 2007-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101138917A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 饭野智谕;歌川哲之;西川健彦 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;B41J2/475 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种记录方法，在进行激光扫描，在非接触型可改写记录介质上描画文字、条形码、β图像或者图形的记录方法中，在记录多个线要素时，能够得到良好的条形码读取性和辨认性等。是一种非接触型可改写记录介质的记录方法，在针对在基材表面上设置可逆性热敏发色层而成的非接触型可改写记录介质的、利用激光扫描的、相邻或者邻接重复的线的描画中，在描画了第1条线(1)后描画第2条线(2)时，作为抑制由已经描画的第1条线(1)的余热以及第2条线(2)的描画时的发热的相互干涉引起的记录的退色现象的方法，控制从第1条线(1)的描画开始点到第2条线(2)的描画结束点进行描画的时间，以及/或者重复宽度r。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 改写 记录 介质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种非接触型可改写记录介质的记录方法，其特征在于：针对在基材表面上设置可逆性热敏发色层而成的非接触型可改写记录介质、利用激光扫描的、相邻或者邻接重复的线的描画中，在描画了第1条线后描画第2条线时，作为抑制由已经被描画的第1条线的余热以及描画第2条线时的发热的相互干涉引起的记录的退色现象的方法，控制从第1条线的描画开始点到第2条线的描画结束点为止进行描画的时间、以及/或者重复宽度。
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