[发明专利]X射线分析设备无效
| 申请号： | 200710148846.X | 申请日： | 2007-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101135657A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 笹山则生 | 申请（专利权）人： | 精工电子纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥夌;刘宗杰 |
| 地址： | 日本千叶*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在使利用X射线透镜聚焦的X射线照射到样本时，在样本中聚焦的X射线的焦点的外围部分处产生X射线光晕分量，并且这时，显微区域的分析的精度成为问题。为了控制来自X射线透镜的X射线的形状，将准直仪安装在X射线透镜与样本之间，且开口部分具有锥形形状，其中开口在朝向样本的一侧被制成小于其在朝向X射线透镜的一侧。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 分析 设备 | ||
【主权项】：
1.一种X射线分析设备，包括：产生X射线的X射线管状灯泡，聚焦所述X射线并将所述X射线照射到样本的X射线透镜，设置在所述X射线透镜与所述样本之间的准直仪，以及检测在用所述X射线照射时从所述样本发出的辐射线或者光的检测器，其中设置在所述准直仪中的开口部分的形状为开口在朝向所述样本的一侧小于在朝向所述X射线透镜的一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工电子纳米科技有限公司，未经精工电子纳米科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710148846.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
