[发明专利]检查方法及设备与光刻设备及器件制造方法

摘要

在散射测量方法中，将对于感兴趣的参数具有不同敏感度的微分部分印刷到校准矩阵中，并且获得差异光谱。将主要分量分析应用于差异光谱以获得校准函数，所述校准函数对于下面结构中的变化比根据单独目标获得的光谱而获得的校准函数更不敏感。

主权项

1.一种测量光刻工艺的参数的方法，在所述光刻工艺中，目标图案被印刷到衬底上，所述方法包括：将基准图案的图像投影到校准衬底的辐射敏感层上多次，以通过所述光刻工艺形成多个校准图案，其中不同的参数值用于形成不同的校准图案，并且基准图案包括对于参数值变化具有不同敏感度的第一和第二部分；将辐射检查束导引到校准图案上，并且测量从所述校准图案上反射或散射的辐射束以获得针对每一个校准图案的每一个部分的测量结果；把针对每一个校准图案的第一部分的测量结果从针对相应校准图案的第二部分的测量结果中减去，以获得多个微分测量结果；将每一个微分测量结果分解为一组基本函数和相关联的系数，并且获得系数值和参数值之间的关系；将基准图案的图像投影到衬底的辐射敏感层上，以形成目标图案，其中用于形成目标图案的参数值是未知的；将辐射检查束导引到目标图案上，并且测量从目标图案上反射或散射的辐射，以获得针对目标部分的每一个部分的目标测量结果；从针对目标图案的第二部分的目标测量结果中减去针对目标图案的第一部分的目标测量结果，以获得目标微分测量结果；将目标微分测量结果分解为一组系数与多个基本函数相乘，并且使用系数值和参数值之间的关系来确定用于形成目标图案的参数值。