[发明专利]基于增强型PHEMT的单刀双掷开关无效

专利信息
申请号: 200710121976.4 申请日: 2007-09-19
公开(公告)号: CN101394173A 公开(公告)日: 2009-03-25
发明(设计)人: 徐静波;张海英;叶甜春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H03K17/687 分类号: H03K17/687;H03K17/94;H01P1/15
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及微波电路技术领域,公开了一种基于增强型PHEMT的单刀双掷微波开关,包括六个增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管EPHEMT、六个限流电阻R、三个隔直电容C、五段微带线L和两个电压控制端。利用本发明,只需要0~0.2V和正电压(1V)作为关断和导通的控制电平,使微波开关和采用正向电压供电的控制电路和其它微波电路更好的实现单片集成,提高了集成度和可实现性,降低了设计的复杂度和成本。
搜索关键词: 基于 增强 phemt 单刀 开关
【主权项】:
1、一种基于增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管的单刀双掷微波开关,其特征在于,该微波开关包括六个增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT、六个限流电阻R、三个隔直电容C、五段微带线L和两个电压控制端,其中,所述第一电压控制端V1的正极通过第一限流电阻R1与第一增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT1的栅极连接,通过第五限流电阻R5与第五增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT5的栅极连接,通过第六限流电阻R6与第六增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT6的栅极连接;所述第二电压控制端V2的正极通过第二限流电阻R2与第二增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT2的栅极连接,通过第三限流电阻R3与第三增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT3的栅极连接,通过第四限流电阻R4与第四增强型赝配高电子迁移率场效应晶体管E PHEMT4的栅极连接;所述E PHEMT1、E PHEMT2的漏极通过第一微带线L1与第一隔直电容C1的一端连接,第一隔直电容C1的另一端接输入端RF IN;所述E PHEMT1的源极与E PHEMT4的漏极直接连接,并通过第二微带线L2与E PHEMT3的漏极连接,同时还依次通过第二微带线L2、第三微带线L3与第二隔直电容C2的一端连接,第二隔直电容C2的另一端接第一输出端RF OUT1;所述E PHEMT2的源极与E PHEMT5的漏极直接连接,并通过第四微带线L4与E PHEMT6的漏极连接,同时还依次通过第四微带线L4、第五微带线L5与第三隔直电容C3的一端连接,第三隔直电容C3的另一端接第二输出端RF OUT2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710121976.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top