[发明专利]光学头与光学蚀刻装置有效
| 申请号： | 200710110074.0 | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101324759A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 李世光;林鼎晸;郑琮达;张晋恺;陈志豪;叶超雄;张佑嘉 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G11B7/135 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学头和光学蚀刻装置。一种微型光学头，可提供次波长聚焦光点与超长景深，其包含透光基材、不透光薄膜与至少一个次波长环孔。通过同步光线穿透支撑光学头的透明基层与经过适当设计的次波长圆环孔后，能克服光束因衍射而发散的限制并有效提升穿透能量。穿透光在一段距离后会形成次波长尺寸宽度的光束并维持相当长的距离不发散。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学头，用于将入射光转换成次波长尺寸光束，该光学头包括：透光基层；不透光薄膜，具有第一表面和与该第一表面相对的第二表面，其中该透光基层贴附于该第一表面上；以及至少一次波长环孔，形成于该不透光薄膜中，由该第一表面延伸至该第二表面，能使由该透光基层往该不透光薄膜行进的该入射光在该不透光薄膜上产生表面等离子体波。
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