[发明专利]用于光学涂层的保护层有效
| 申请号： | 200710108187.7 | 申请日： | 2003-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN101092288A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | K·W·胡卡里;P·A·马施威茨;R·D·丹嫩伯格 | 申请（专利权）人： | AFG工业公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C03B25/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为透明底物(1)上的光学涂层提供临时性碳层(3)作为生产过程中抗划伤和腐蚀性环境的保护。当在碳的反应性气氛，诸如空气中，将光学涂层和/或底物回火时，碳层以含碳气体的形式除去。对于带有距底物(1)最远处的脆性玻璃质最外层(2a)的光学涂层而言，通过在最外层(2a)和碳保护层(3)之间的划痕传播阻滞剂层(4)提供了额外的保护。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 涂层 保护层 | ||
【主权项】：
1.一种制备透明制品的方法，所述方法包括在底物上的光学涂层上形成包括基本上由碳组成的层的保护涂层；在反应性气氛中加热保护涂层；将由碳组成的层与反应性气氛反应，形成含碳气体；以及从光学涂层上除去基本上由碳组成的层，以形成透明制品。
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