[发明专利]用于光学涂层的保护层

权利要求书

1.一种制备透明制品的方法，所述方法包括

在底物上的光学涂层上形成包括基本上由碳组成的层的保护涂层；

在反应性气氛中加热保护涂层；

将由碳组成的层与反应性气氛反应，形成含碳气体；以及

从光学涂层上除去基本上由碳组成的层，以形成透明制品。

2.权利要求1的方法，其中所述形成包括蒸汽沉积保护涂层。

3.权利要求2的方法，其中所述蒸汽沉积包括喷镀。

4.权利要求1的方法，其中在加热之前，基本上由碳组成的层是1-10nm厚。

5.权利要求1的方法，其中用氮掺杂基本上由碳组成的层。

6.权利要求1的方法，其中基本上由碳组成的层是由碳和不可避免的杂质组成的。

7.权利要求1的方法，其中在基本上由碳组成的层中，碳包括至少一种选自金刚石状碳和石墨的形式的碳。

8.权利要求1的方法，其中反应性气氛是含氧气氛。

9.权利要求8的方法，其中含氧气氛是空气。

10.权利要求1的方法，其中含碳气体包括至少一种选自一氧化碳和二氧化碳的化合物。

11.权利要求1的方法，其中所述加热包括将保护涂层的温度升高为至少400℃。

12.权利要求1的方法，其中所述加热使光学涂层回火。

13.权利要求1的方法，其中所述加热使底物回火。

14.权利要求1的方法，其中底物包括玻璃。

15.权利要求14的方法，其中玻璃对可见光是透明的。

16.权利要求1的方法，其中所述反应从光学涂层上除去全部基本上由碳组成的层。

17.权利要求1的方法，其中所述除去之后光学涂层中的划痕数目不多于紧邻所述形成之前光学涂层中划痕数目的110％。

18.权利要求1的方法，其中光学涂层在距底物最远处包括含氮化硅的均匀最外层。

19.权利要求18的方法，其中

保护涂层在基本上由碳组成的层和最外层之间还包括划痕传播阻滞剂层；而

划痕传播阻滞剂层是包括选自下列的材料的均匀层：

Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氧化物；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氮化物；及其混合物。

20.权利要求19的方法，其中划痕传播阻滞剂层由不可避免的杂质以及选自下列的材料组成：

Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氧化物；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氮化物；及其混合物。

21.权利要求19的方法，其中划痕传播阻滞剂层的厚度是2-8nm。

22.一种制备透明制品的方法，所述方法包括

提供具有光学涂层的底物，所述光学涂层在距底物最远处包括均匀的最外层；和

在最外层上形成划痕传播阻滞剂层，其中

划痕传播阻滞剂层是包括选自下列的材料的均匀层：

Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氧化物；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氮化物；及其混合物。

23.权利要求22的方法，其中最外层包括氮化硅。

24.权利要求22的方法，其中所述形成包括在最外层上蒸汽沉积划痕传播阻滞剂层。