[发明专利]图案形成方法、滤色片、结构材料及液晶显示装置无效
| 申请号： | 200710104913.8 | 申请日： | 2007-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN101075089A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 佐藤守正 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G02B5/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种图案形成方法，其特征在于，其是至少经过以下所述工序形成滤色片部件的图案的图案形成方法，即：在基板上形成由感光性树脂组合物构成的感光性树脂层的感光性树脂层形成工序；相对于所述感光性树脂层，边基于图像数据调制光边进行相对扫描而曝光，形成二维图像的图案曝光工序；和将已曝光的所述感光性树脂层显影的显影工序，所述感光性树脂层的γ为1～15，而且在所述图案曝光工序中使用的曝光装置的曝光能线图为10～50。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 滤色片 结构 材料 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，其特征在于，其是至少经过以下所述工序形成滤色片部件的图案的图案形成方法，即：在基板上形成由感光性树脂组合物构成的感光性树脂层的感光性树脂层形成工序；相对于所述感光性树脂层，边基于图像数据调制光边进行相对扫描而曝光，形成二维图像的图案曝光工序；和将已曝光的所述感光性树脂层显影的显影工序，所述感光性树脂层的γ为1～15，而且在所述图案曝光工序中使用的曝光装置的曝光能线图为10～50，其中所述γ为：在将对一定膜厚的感光性树脂层进行图案曝光时的曝光能量设为E、曝光后显影处理时的膜厚的残存率设为Y的情况下，将曝光能量E与膜厚的残存率之间的关系曲线化，在该曲线中，膜厚的残存率Y成为50％的点(在该点的残存率设为Y50，曝光能量设为E50。)中的E50±ΔE的直线的斜率(Y50+Δ-Y50-Δ)/(logE50+Δ-logE50-Δ)的值，所述曝光能线图为：将对一定膜厚的感光性树脂层进行图案曝光时的曝光能量E设为100％，将曝光区域的位置座标与该E之间的关联曲线化，在该曲线中，曝光能量成为50％的点(在该点的座标设为P50，曝光能量设为E50。)中的直线的斜率(E50+Δ-E50-Δ)/(P50+Δ-P50-Δ)的值。
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