[发明专利]图案形成方法、滤色片、结构材料及液晶显示装置无效

专利信息
申请号: 200710104913.8 申请日: 2007-05-17
公开(公告)号: CN101075089A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: 佐藤守正 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/004;G02B5/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 图案 形成 方法 滤色片 结构 材料 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种图案形成方法,其特征在于,其是至少经过以下所述工序形成滤色片部件的图案的图案形成方法,即:

在基板上形成由感光性树脂组合物构成的感光性树脂层的感光性树脂层形成工序;

相对于所述感光性树脂层,边基于图像数据调制光边进行相对扫描而曝光,形成二维图像的图案曝光工序;和

将已曝光的所述感光性树脂层显影的显影工序,

所述感光性树脂层的γ为1~15,而且

在所述图案曝光工序中使用的曝光装置的曝光能线图为10~50,

其中所述γ为:在将对一定膜厚的感光性树脂层进行图案曝光时的曝光能量设为E、曝光后显影处理时的膜厚的残存率设为Y的情况下,将曝光能量E与膜厚的残存率之间的关系曲线化,在该曲线中,膜厚的残存率Y成为50%的点(在该点的残存率设为Y50,曝光能量设为E50。)中的E50±ΔE的直线的斜率(Y50+Δ-Y50-Δ)/(logE50+Δ-logE50-Δ)的值,所述曝光能线图为:将对一定膜厚的感光性树脂层进行图案曝光时的曝光能量E设为100%,将曝光区域的位置座标与该E之间的关联曲线化,在该曲线中,曝光能量成为50%的点(在该点的座标设为P50,曝光能量设为E50。)中的直线的斜率(E50+Δ-E50-Δ)/(P50+Δ-P50-Δ)的值。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法,其特征在于,

所述图案曝光利用激光曝光装置进行,所述曝光装置具备:光照射机构;光调制机构,其具有多个接受来自所述光照射机构的光而射出的描绘部;微透镜阵列,其排列有微透镜,该微透镜具有可以修正所述描绘部中的射出面的变形引起的像差的非球面。

3.根据权利要求1所述的图案形成方法,其特征在于,

所述感光性树脂组合物含有树脂、单体或寡聚物、光聚合引发剂或光聚合引发剂系和聚合抑制剂。

4.根据权利要求3所述的图案形成方法,其特征在于,

所述聚合抑制剂为选自具有苯酚性羟基的化合物、吩噻嗪及吩噁嗪中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的图案形成方法,其特征在于,

相对于所述单体及寡聚物的含量,所述聚合抑制剂的含量在0.005~0.5质量%的范围。

6.一种滤色片,其特征在于,

使用权利要求1~5中任意一项所述的图案形成方法制造。

7.一种结构材料,其特征在于,

使用权利要求1~5中任意一项所述的图案形成方法制造。

8.一种液晶显示装置,其特征在于,

具备权利要求6所述的滤色片。

9.一种液晶显示装置,其特征在于,

具备权利要求7所述的结构材料。

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