[发明专利]处理液处理装置和具备该装置的基板处理装置无效
| 申请号： | 200710104629.0 | 申请日： | 2007-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN101122024A | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | 西川畅浩;田中幸雄;柏井俊彦 | 申请（专利权）人： | 住友精密工业株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;B01D15/08 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够延长处理液的更换周期、防止基板处理效率下降、抑制基板处理成本的基板处理装置等。基板处理装置(1)包括：第一处理液循环机构(20)，使处理液在贮存槽(11)与基板处理机构(12)之间循环；两个吸附塔(32、33)，吸附通过基板处理机构(12)的基板处理而包含在处理液中的金属离子；第二处理液循环机构(34)，有选择地向吸附塔(32、33)中的任意一个供给贮存槽(11)内的处理液并使其循环；和控制装置(28)，控制第二处理液循环机构(34)的动作，使得被供给处理液的吸附塔(32、33)按照规定时间间隔交替切换。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 具备 | ||
【主权项】：
1.一种处理液处理装置，用于进行除去基板处理用的处理液中所含的金属离子的处理，其特征在于，包括：贮存所述处理液的贮存槽；金属离子吸附单元，具备并列设置的至少两个吸附塔，在该各吸附塔的内部，填充有吸附所述处理液中的金属离子的螯合剂；和除去处理用循环单元，具有用于向所述各吸附塔供给所述贮存槽内的处理液的处理液供给管、用于将在所述各吸附塔内流通的处理液回收至所述贮存槽内的处理液回收管、和设置在所述处理液供给管上并控制向所述各吸附塔供给所述处理液的第一切换阀，通过切换所述第一切换阀，有选择地向所述各吸附塔中的任意一个供给所述处理液并使其循环。
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