[发明专利]处理液处理装置和具备该装置的基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及处理液处理装置和具备该装置的基板处理装置，该处理液处理装置进行除去在基板处理用处理液中所含有的金属离子的处理。

背景技术

在制造例如半导体(硅)晶片、液晶玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等各种基板的工序中，包括向这些基板供给蚀刻液或显影液、洗净液等各种处理液并对该基板进行处理的工序。

并且，作为在该工序中使用的基板处理装置，一直以来已知有例如日本特开2000-96264号公报中公开的蚀刻装置。该蚀刻装置包括：贮存蚀刻液的贮存槽；通过蚀刻液对基板进行蚀刻处理的基板处理机构；蚀刻液循环机构，向基板处理机构供给贮存在贮存槽内的蚀刻液，并从该基板处理机构回收已供给的蚀刻液，从而使蚀刻液在贮存槽与基板处理机构之间循环；浓度传感器，检测贮存在贮存槽内的蚀刻液中有利于蚀刻处理的成分的浓度；和蚀刻液补给机构，如果由浓度传感器检测出的浓度偏离规定的基准浓度，则向贮存槽内补给新的蚀刻液，从而使该蚀刻液中的上述有利成分浓度保持在一定浓度。

上述基板处理机构包括：具有密闭空间的处理腔室；多个搬送辊，配设在处理腔室内，水平支承基板并向规定方向搬送；和多个喷嘴体等，该多个喷嘴体配设在搬送辊的上方，向基板的上表面喷出蚀刻液。

上述蚀刻液循环机构包括：供给管，一端侧与贮存槽连接，另一端侧设在处理腔室内，在该另一端侧固定有上述各喷嘴体；供给泵，通过供给管向各喷嘴体供给蚀刻液；和回收管等，该回收管的一端侧与上述处理腔室的底部连接，另一端侧与贮存槽连接。

根据该蚀刻装置，由搬送辊向规定方向搬送基板，同时利用供给泵，通过供给管向各喷嘴体供给贮存在贮存槽中的蚀刻液，从该各喷嘴体向基板上表面喷出，利用该蚀刻液蚀刻基板。

并且，向基板上表面喷出的蚀刻液在回收管内流通，从处理腔室内回收至贮存槽内。由浓度传感器随时检测贮存在贮存槽内的蚀刻液中的上述有利成分的浓度，如果由该浓度传感器检测出的有利成分浓度偏离规定的基准浓度，则利用蚀刻液补给机构向贮存槽内补给新的蚀刻液，将该蚀刻液中的上述有利成分浓度保持在一定浓度。

专利文献1：日本特开2000-96264号公报

但是，例如如果对在基板的上表面形成的氧化铟锡膜等金属膜进行蚀刻，则通过该蚀刻，构成该金属膜的铟和锡等金属就会溶解在蚀刻液中。因此，在使蚀刻液在贮存槽与基板处理机构之间循环的方式构成的上述现有的蚀刻装置中，蚀刻液中所含的上述金属的浓度缓缓上升，如果该金属浓度达到一定水平以上，就会产生蚀刻速度下降、无法获得高精度的蚀刻形状等问题。另外，如果蚀刻液中所含的上述金属的浓度上升，会产生蚀刻液中生成该金属的氧化物、蚀刻液的成分结晶化而析出、该析出物附着在贮存槽的内表面而或以颗粒的形式附着在基板上的问题，还会产生必须定期除去附着在贮存槽内表面的析出物的问题。

因此，在上述现有的蚀刻装置中，必须定期更换贮存槽内的蚀刻液，而且，由于在蚀刻液的更换过程中无法进行蚀刻处理，所以基板处理效率降低。另外，因这种处理效率的降低以及更换蚀刻液所花费的费用(已更换的蚀刻液的废弃处理费用和更换的蚀刻液的购买费用)，蚀刻处理成本将会增加。

发明内容

本发明是鉴于以上实际情况而完成的，其目的在于提供一种能够使处理液再利用的处理液处理装置，和具备该处理液处理装置、并且能够延长处理液的更换周期、防止基板处理效率降低、抑制基板处理成本的基板处理装置。

为了达到上述目的，本发明涉及一种处理液处理装置，用于进行除去基板处理用的处理液中所含的金属离子的处理，其特征在于，包括：

贮存上述处理液的贮存槽；

金属离子吸附单元，具备并列设置的至少两个吸附塔，在该各吸附塔的内部，填充有吸附上述处理液中的金属离子的螯合剂；和

除去处理用循环单元，具有用于向上述各吸附塔供给上述贮存槽内的处理液的处理液供给管、用于将在上述各吸附塔内流通的处理液回收至上述贮存槽内的处理液回收管、和设置在上述处理液供给管上并控制向上述各吸附塔供给上述处理液的第一切换阀，通过切换上述第一切换阀，有选择地向上述各吸附塔中的任意一个供给上述处理液并使其循环。

根据该处理液处理装置，利用除去处理用循环单元，有选择地通过处理液供给管向吸附塔中的任意一个供给贮存在贮存槽中的处理液，并且在该吸附塔内流通之后，通过处理液回收管回收至贮存槽内，使其在该贮存槽与吸附塔之间进行循环。在吸附塔中，由填充在其内部的螯合剂吸附处理液中所含的金属离子(溶解于处理液中的金属)。