[发明专利]用于溅射源的靶无效
| 申请号： | 200710101903.9 | 申请日： | 2007-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN101067198A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | W·比尔;G·埃申多尔夫 | 申请（专利权）人： | 苏舍美特科公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏;谭祐祥 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种用于溅射源的靶可被再分成多个可交换的靶部段(9)。每个靶部段(9)包含涂层材料，其中每个靶部段(9)与至少两个相邻靶部段(9′、9″)接界，其中每个靶部段可通过至多一个紧固装置(7、8、10)被连接至底部本体(2、13、15)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溅射 | ||
【主权项】：
1、一种用于溅射源的靶，其中所述靶可被再分成多个可交换的靶部段(9)，且每个靶部段(9)包含涂层材料，其中每个靶部段(9)与至少两个相邻靶部段(9′、9″)接界，其中每个靶部段可通过至多一个紧固装置(7、8、10)被连接至底部本体(2、13、15)，其特征在于，所述紧固装置与所述靶部段(9)具有中间空间，导电和导热的装置(6、10、11、12、27)被布置在所述中间空间中，以使得均匀的电流强度可被分配在所述靶部段(9)的表面上，且此外在所述靶部段上产生的热量可被均匀地消散进入所述底部本体内。
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