[发明专利]检测掩膜版的方法有效

专利信息
申请号: 200710094367.4 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101452201A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 王柳 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 丁纪铁
地址: 201206上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种检测掩膜版的方法,步骤为:1,能量一定、按照不同的焦距在光片上同时曝光待检测掩膜版和已知为良品掩膜版的图形;2,焦距一定、按照不同的能量在光片上同时曝光待检测掩膜版和已知为良品掩膜版的图形;3,做成检测文件;4,根据第一步的曝光结果判断待检测掩膜版与已知为良品的掩膜版的焦深差异,以及掩膜版的图形和颗粒的状况;5,根据第二步的曝光结果判断待检测的掩膜版与已知为良品的掩膜版的能量域值差异,以及掩膜版的图形和颗粒的状况;6,综合第四步和第五步的结果判断待检测掩膜版的性能。本发明减少了工作量,提高工作效率。
搜索关键词: 检测 掩膜版 方法
【主权项】:
1. 一种检测掩膜版的方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,能量一定、按照不同的焦距在光片上同时曝光待检测掩膜版和已知为良品掩膜版的图形;第二步,焦距一定、按照不同的能量在光片上同时曝光待检测掩膜版和已知为良品掩膜版的图形;第三步,做成检测文件;第四步,根据第一步的曝光结果判断待检测掩膜版与已知为良品的掩膜版的焦深差异,以及掩膜版的图形和颗粒的状况;第五步,根据第二步的曝光结果判断待检测的掩膜版与已知为良品的掩膜版的能量域值差异,以及掩膜版的图形和颗粒的状况;第六步,综合第四步和第五步的结果判断待检测掩膜版的性能。
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