[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200710088632.8 | 申请日： | 2007-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101038446A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | H·K·范德舒特;E·R·卢普斯特拉;F·M·雅各布斯;G·K·H·F·吉伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 设置一活动元件，其使基底台的顶表面在平面图中延伸超过碰撞期间保护基底台的缓冲器。该活动元件可以缩回至缩回位置，在缩回位置，活动元件不再延伸超过缓冲器。这样，可以一起移动两个基底台，并且允许可缩回元件经过该液体供给系统下面，而不用关掉液体供给系统，所述液体供给系统正常情况下向投影系统与基底之间供给液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：用于支撑基底的基底台，所述基底台包括主体部分和活动边缘部分，其中，当所述边缘部分位于第一位置时，所述边缘部分的顶表面基本上与所述主体部分的顶表面处于同一平面内，并且所述边缘部分在平面图中呈现为所述基底台的外边缘，其中，所述活动边缘部分可相对于该基底台主体部分移动至第二位置，所述活动边缘部分在该第二位置处不形成所述基底台的外边缘。
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