[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200710088632.8 | 申请日： | 2007-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101038446A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | H·K·范德舒特;E·R·卢普斯特拉;F·M·雅各布斯;G·K·H·F·吉伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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