[发明专利]防漏构件及清洁装置无效
| 申请号： | 200710080003.0 | 申请日： | 2007-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101169608A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 小田智之;村瀬幸司;上田博之;竹中秀典;堀内伸浩;保母纯平 | 申请（专利权）人： | 京瓷美达株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/02 | 分类号： | G03G15/02;G03G15/08;G03G15/16;G03G21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 密封构件264用于安装在清洁图像形成装置旋转体表面的清洁装置上，在由清洁装置清洁彩色打印机1的感光鼓10表面时，防止显影剂从感光鼓10侧面泄漏。密封构件264包括接触部264a和移动限制部264b。接触部264a，在接近和远离感光鼓10表面的方向上可弹性变形，其与感光鼓10表面可保持线接触，以使显影剂不能通过其与感光鼓10表面之间。移动限制部264b，与接触部264a连接，为用于限制密封构件264移动的部分，使其不能随感光鼓10的转动发生移动。 | ||
| 搜索关键词： | 防漏 构件 清洁 装置 | ||
【主权项】：
1.一种防漏构件(264)，用于安装在清洁图像形成装置旋转体表面的清洁装置上，以防止显影剂从所述清洁构件的两侧泄漏，包括：接触部(264a)，由弹性材料所构成，所述接触部包括第一抵接部(264c1)，所述第一抵接部(264c1)通过与所述旋转体表面保持线接触以防止显影剂通过第一抵接部；移动限制部(264b)，连接在所述接触部(264a)，用于限制所述接触部的移动。
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