[发明专利]防漏构件及清洁装置

说明书

技术领域

本发明涉及防漏构件以及使用该防漏构件的清洁装置，利用清洁构件清洁图像形成装置的静电潜像载体表面、中间转印部件或显影装置显影辊表面等旋转体表面时，防止从旋转体表面泄漏显影剂。

背景技术

通常，图像形成装置具有基于图像信息形成图像的图像形成部、将在图像形成部形成的图像定影在纸张上的定影部、以及排出由定影部完成定影的纸张的排出部。在这种图像形成装置中，图像形成部基于图像信息在纸张上形成图像，由定影部定影图像。随后，完成图像定影的纸张经排出部排出。

图像形成部通常具有在表面形成静电潜像的静电潜像载体、向静电潜像载体提供显影剂的显影装置、以及清洁静电潜像载体表面的清洁装置。在这种图像形成部中，基于图像信息在静电潜像载体表面形成静电潜像，从显影装置向静电潜像载体侧提供显影剂。接着，将形成于静电潜像载体表面的图像转印到纸张上。随后，用清洁装置清洁静电潜像载体。

在上述图像形成装置中包含多个承载显影剂的旋转体，有的还设有防止显影剂从旋转体泄漏的密封构件。例如有的静电潜像载体的清洁装置，包括：刮板构件，从可承载显影剂图像的静电潜像载体表面刮取显影剂；框架，其内部容纳由刮板构件刮取下的显影剂；密封构件，设置于刮板构件两端部，用于防止显影剂从刮板构件两端部泄漏。由于密封构件与刮板构件之间的定位精度较低从而显影剂容易从静电潜像载体和密封构件之间泄漏。为提高密封构件的精度，日本专利特开平7-5794号公报公开了一种根据刮板构件定位密封构件的清洁装置。

可是，由于在已有的清洁装置中与可承载显影剂图像的静电潜像载体接触的部分是由无纺布制成的，因此清洁装置与静电潜像载体之间会产生细小的缝隙。而且由于难以将无纺布制作成与静电潜像载体表面完全吻合的形状，清洁装置与静电潜像载体之间的密封性差。因此，当使用细粒显影剂、液体显影剂时，显影剂会从上述缝隙中泄漏到外部。

另外，上述对比文献虽然提高了相对于刮板构件的密封构件位置精度，却并未涉及相对于可承载显影剂图像的静电潜像载体的密封构件定位。而实际上，由于静电潜像载体通常为鼓状物，相对于静电潜像载体的密封构件的定位也不容忽视。一旦密封构件相对于静电潜像载体发生位置偏移，密封构件的整个接触面就不能与鼓状物表面均匀抵接，容易发生泄漏。而当静电潜像载体旋转时，密封构件可能会随着静电潜像载体的旋转向旋转方向移动，此时很难保持二者间良好的接触关系。

发明内容

本发明要解决的技术问题是，在使用细粒显影剂、液体显影剂时防止其泄漏。其次，限制密封构件随静电潜像载体旋转而移动。

本发明提出的第一种防漏构件，是在清洁图像形成装置旋转体表面时用于防止显影剂从清洁旋转体的清洁构件侧部泄漏的防漏构件，包括：接触部和移动限制部。接触部由弹性材料所构成，可在接近·远离旋转体表面的方向上弹性变形，并具有第一抵接部。第一抵接部可沿旋转体表面与旋转体表面保持线接触、以使显影剂不能通过其与旋转体表面之间。移动限制部，与接触部连接，用于限制接触部在与旋转体的接触状态下产生移动。

该防漏构件，在清洁旋转体表面时，其接触部与旋转体表面保持线接触，以使显影剂不能通过其与旋转体表面之间。

在这里，由于第一抵接部可沿旋转体表面与旋转体表面保持线接触状态，因此与面接触状态相比接触面积少，由接触部分施加到旋转体的压力增大。所以，显影剂不易向外部泄漏。

本发明提出的第二种防漏构件是在第一种防漏构件的基础上，接触部还具有与第一抵接部平行地设置在同一表面上，并可与所述旋转体表面保持线接触的第二抵接部。

在这里，第二抵接部可进一步阻止显影剂向外部泄漏。而且，同接触部整体与旋转体接触相比，摩擦力的作用面积变小。

本发明提出的第三种防漏构件是在第一种防漏构件的基础上，其接触部还包括形成在与设有第一抵接部面相对的面上的槽。该槽沿第一抵接部的长度方向延伸。因而防漏构件可在旋转体轴向上弹性变形。

在这里，旋转体延伸方向上的变形变得容易起来。

本发明提出的第四种防漏构件是在第一种防漏构件的基础上，其移动限制部，与接触部一体形成，限制接触部随旋转体的转动而移动。

在用清洁装置清除残留于旋转体表面上的调色剂时，防漏构件的接触部与旋转体表面保持接触，使显影剂不能在接触部与旋转体表面之间通过；而接触部在与接触部一体形成的移动限制部的限制下，不能随旋转体的转动而移动。

这样，可限制防漏构件随旋转体的转动产生移动。