[发明专利]减少磁共振温度成像中温度误差的方法和装置有效
| 申请号： | 200710064912.5 | 申请日： | 2007-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN101273889A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 周晓东;戴勇鸣 | 申请（专利权）人： | 西门子（中国）有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;A61N7/00;G01R33/48;G06T5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100102北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种减少磁共振温度成像中温度误差的方法，用于磁共振监控的高强度聚焦超声HIFU治疗，该方法包括：对HIFU治疗头在两个或两个以上位置时生成的参考像进行插值，得到HIFU治疗头移动位置的参考像；根据所述HIFU治疗头移动位置的插值参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热像计算加热区域的温度变化。本发明还公开了一种减少磁共振温度成像中温度误差的装置，该装置包括参考像插值单元和温度计算单元。使用了本发明的方法和装置，能够显著减小HIFU治疗头的移动中由于磁化率的变化导致的温度误差，既能得到准确的加热区域的温度变化，同时减小HIFU治疗中操作的复杂程度和治疗时间。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 磁共振 温度 成像 误差 方法 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种减少磁共振温度成像中温度误差的方法，用于磁共振监控的高强度聚焦超声HIFU治疗，其特征在于，包括：对HIFU治疗头在两个或两个以上位置时生成的参考像进行插值，得到HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图；根据所述HIFU治疗头移动位置的参考像的相位图和HIFU治疗头在该位置时生成的加热像计算加热区域的温度变化。
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