[发明专利]一种CsLiB6O10晶体的助熔剂生长方法有效

专利信息
申请号: 200710063978.2 申请日: 2007-02-15
公开(公告)号: CN101245490A 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: 胡章贵;余雪松 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B11/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 王凤华
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及的CsLiB6O10晶体助熔剂生长方法:将CsLiB6O10与助熔剂按摩尔比配料,进行预处理得熔体;助熔剂为M′X、M″X2、PbO、Bi2O3、M′3Mo3O10或M′4V2O7,其中M′为Li、Na或K,M″为Ca、Ba或Pb,X为F或Cl;熔体降至饱和温度以上2~10℃,引入籽晶,经恒温后降至饱和温度;并以此为起始温度,以0.01~1℃/天速率降温;晶体生长至所需尺寸,提升籽晶杆晶体脱离液面,以不大于20℃/h速率降至室温,得CsLiB6O10晶体。该方法可降低生长温度,减小生长体系挥发性和粘度,利于溶质传输,可长出高光学质量光学晶体。
搜索关键词: 一种 cslib sub 10 晶体 熔剂 生长 方法
【主权项】:
1. 一种CsLiB6O10晶体的助熔剂生长方法,包括如下步骤:1)配料及预处理:将CsLiB6O10与助熔剂按摩尔比为1∶0.01~30配料,并进行预处理,得到熔体;所述的助熔剂为M′X、M″X2、PbO、Bi2O3、M′3Mo3O10或M′4V2O7,其中M′为Li、Na或K,M″为Ca、Ba或Pb,X为F或Cl;2)下籽晶:将步骤1)得到的熔体降至饱和温度以上2~10℃,将已固定在籽晶杆上的籽晶引入至熔体表面或熔体中,恒温15~30分钟后,降至饱和温度;3)生长晶体:将籽晶以10~80转/分的速率旋转,恒温20分钟后,立即降温至饱和温度;再以饱和温度作为降温的起始温度,以0.01~1℃/天的速率降温,进行晶体生长;其晶体生长的方向为任意方向;4)出炉:待晶体生长至所需尺寸后,提升籽晶杆,使晶体脱离液面,以不大于20℃/h的速率降温至室温,得到CsLiB6O10晶体。
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