[发明专利]用n型氧化锌制备p型氧化锌薄膜的方法无效
申请号: | 200710056189.6 | 申请日: | 2007-10-18 |
公开(公告)号: | CN101225549A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 赵东旭;曹萍;吕有明;申德振;李炳辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | C30B31/06 | 分类号: | C30B31/06;C30B33/00;H01L21/383 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 | 代理人: | 赵炳仁 |
地址: | 130033吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及半导体材料p型氧化锌薄膜的制备方法,特别是一种用,n型氧化锌制备p型氧化锌薄膜的方法,由以下工艺步骤实现:a.将已准备好的n型氧化锌薄膜放入等离子体增强的化学气相沉积生长室;b.打开机械泵抽真空,使真空度小于50Pa;c.衬底加热到预定的温度100~200℃;d.通入氨气,打开射频电源,输入功率为10~30瓦,进行0.5~2h的氨等离子体氮化处理,即实现氧化锌薄膜从n型到p型的转变。本发明是利用等离子体化学气相沉积直接对n型氧化锌薄膜进行后处理,使其发生从n型到p型的转变。其优点是制备工艺简单、材料生长温度低、可以在常压下操作、可重复性比较高、得到的p型比较稳定。 | ||
搜索关键词: | 氧化锌 制备 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用n型氧化锌制备p型氧化锌薄膜的方法,其特征在于由以下工艺步骤实现:a.将已准备好的n型氧化锌薄膜放入等离子体增强的化学气相沉积生长室;b.打开机械泵抽真空,使真空度小于50Pa;c.衬底加热到预定的温度100~200℃;d.通入氨气,打开射频电源,输入功率为10~30瓦,进行0.5~2h的氨等离子体氮化处理,即实现氧化锌薄膜从n型到p型的转变。
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