[发明专利]SOI高压器件无效

专利信息
申请号: 200710050657.9 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101179097A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 方健;周贤达;张波;乔明 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/43;H01L29/417;H01L29/786;H01L29/739
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610054四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: SOI高压器件,属于电子技术领域中的SOI高压半导体器件。本发明提供的SOI高压器件包括二极管、LDMOS和LIGBT,其主要技术方案是将常规实心形状的阴极/漏极/集电极改成环形形状的阴极/漏极/集电极,使SOI高压器件工作于截止状态时的纵向电场分布的更加均匀,从而提高SOI高压器件击穿电压。本发明摒弃了通常采用的以提高I层耐压为途径来提高SOI高压器件纵向耐压的方式,通过改变器件局部结构以提高顶硅层耐压为途径同样达到提高SOI高压器件纵向耐压的效果,本发明可与常规CD工艺全兼容,与常规SOI高压器件的制备工艺相比不增加工艺难度及成本,具备很强的可实施性。
搜索关键词: soi 高压 器件
【主权项】:
1.一种SOI高压二极管,包括衬底(5)、I层(7)、漂移区(2)、阳极(1)、阴极(3)、阳极金属引线(6)和阴极金属引线(4);其特征在于,阴极(3)为环形重掺杂阴极。
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