[发明专利]聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法有效
| 申请号： | 200710037676.8 | 申请日： | 2007-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101246132A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 赖李龙 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N23/18;G01N13/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李文红 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚焦离子束设备，包括壳体、用于在样品上产生断面的聚焦离子束装置、用于检测所述断面的扫描电子显微镜装置，以及样品台，此外，还包括与所述样品台相连的，用于旋转所述样品台的断面偏转装置，且所述断面偏转装置的偏转轴线垂直于所述断面。本发明的聚焦离子束检测方法中，增加了沿垂直于所述断面的偏转轴线旋转样品台以调整样品台偏转角度的步骤，避免了离子束在样品内造成的损伤性缺陷，使得检测结果更为准确清晰，并且在实现上也简单方便。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 离子束 设备 检测 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种聚焦离子束设备，包括壳体、用于在样品上产生断面的聚焦离子束装置、用于检测所述断面的扫描电子显微镜装置，以及样品台，其特征在于：还包括与所述样品台相连的，用于旋转所述样品台的断面偏转装置，且所述断面偏转装置的偏转轴线垂直于所述断面。
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