[发明专利]聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法有效
| 申请号： | 200710037676.8 | 申请日： | 2007-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101246132A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 赖李龙 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N23/18;G01N13/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李文红 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚焦 离子束 设备 检测 方法 | ||
1. 一种聚焦离子束设备，包括壳体、用于在样品上产生断面的聚焦离子束装置、用于检测所述断面的扫描电子显微镜装置，以及样品台，其特征在于：还包括与所述样品台相连的，用于旋转所述样品台的断面偏转装置，且所述断面偏转装置的偏转轴线垂直于所述断面。
2. 如权利要求1所述的设备，其特征在于：所述扫描电子显微镜装置垂直安装于所述壳体的内顶部，所述聚焦离子束装置倾斜安装于所述壳体的内顶部或内侧壁。
3. 如权利要求2所述的设备，其特征在于：还包括与样品台相连，用于将所述样品台调整至与所述聚焦离子束装置相垂直的聚焦偏转装置。
4. 如权利要求3所述的设备，其特征在于：所述断面偏转装置的偏转轴线垂直于所述聚焦偏转装置的偏转轴线。
5. 如权利要求3所述的设备，其特征在于：所述断面偏转装置与所述聚焦偏转装置的偏转轴线相交。
6. 如权利要求3所述的设备，其特征在于：所述断面偏转装置的偏转轴线与所述聚焦偏转装置的偏转轴线上、下交错。
7. 如权利要求1所述的设备，其特征在于：所述聚焦离子束装置垂直安装于所述壳体的内顶部，所述扫描电子显微镜装置倾斜安装于所述壳体的内顶部或内侧壁。
8. 如权利要求1所述的设备，其特征在于：所述断面偏转装置与控制系统相连。
9. 一种聚焦离子束检测方法，其特征在于，包括步骤：
利用扫描电子显微镜装置确定样品台上样品的检测区域；
利用断面偏转装置沿垂直于所述样品上将要产生的断面的偏转轴线旋转所述样品台；
利用聚焦离子束装置在所述样品的检测区域形成断面；
利用扫描电子显微镜装置检测所述样品的断面。
10. 如权利要求9所述的检测方法，其特征在于，在利用断面偏转装置旋转所述样品台之前，还包括：
利用聚焦偏转装置将所述样品台调整至与聚焦离子束装置相垂直的位置。
11. 如权利要求10所述的检测方法，其特征在于：所述聚焦偏转装置调整样品台的方向垂直于所述断面偏转装置旋转样品台的方向。
12. 如权利要求9所述的检测方法，其特征在于：所述样品的检测区包含连接塞和接触插塞结构。
13. 如权利要求9所述的检测方法，其特征在于：利用所述断面偏转装置旋转所述样品台的角度在1至60度之间。
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