[发明专利]ppn型发光晶体管及其制备方法无效
| 申请号: | 200710028069.5 | 申请日: | 2007-05-21 |
| 公开(公告)号: | CN101060154A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
| 发明(设计)人: | 郭志友;张建中;孙慧卿;范广涵 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 广州粤高专利代理有限公司 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 51063*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种基于III-V族化合物或者II-VI族化合物的高发光效率的ppn型发光晶体管,包括衬底、缓冲层、n型布拉格反射层、n型电子发射层、发射电极、多量子阱有源发光层、窄带隙p-型基区层,与p-型基区层通过欧姆接触形成的电极、宽带隙p+型集电极层以及与p+型集电极层欧姆接触的电极;本发明还涉及所述ppn型发光晶体管的制备方法;本发明采用了p+型、p-型、n型晶体管结构;具有p-型基极可以控制发光。 | ||
| 搜索关键词: | ppn 发光 晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种ppn型发光晶体管,其特征在于包括衬底、形成于衬底上的缓冲层、形成于缓冲层上的n型布拉格反射层、形成于n型布拉格反射层上的n型电子发射层、与n型电子发射层欧姆接触的发射电极、形成于n型电子发射层上的多量子阱有源发光层、形成于多量子阱有源发光层上的窄带隙p-型基区层,与p-型基区层通过欧姆接触形成的电极、通过突变同型异质结接触形成于p-型基区层之上的宽带隙p+型掺杂的集电极层以及与p+型集电极层欧姆接触的电极。
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