[发明专利]非接触漫射固化曝光的系统、方法和装置有效
| 申请号： | 200710005775.8 | 申请日： | 2007-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101055418A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | 兹沃尼米尔·Z·班迪克;吴才伟 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种纳米压印配置，包括UV光漫射器，其使准直UV光束随机化从而减弱来自位于UV光学路径中的缺陷物的遮蔽效应。另外，组合中心圆垫和外环形垫形成两个垫片之间的环形“非接触”区域。设计两个垫组合的尺寸和形状从而避免该盘基板上图案化压印区域之上的直接凝胶垫接触。凝胶垫、非接触配置的目的在于消除沿负载柱产生的任何可能的表面形变，且由此避免任何形变弹性传播到压模抗蚀剂表面。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 漫射 固化 曝光 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种压印装置，包括：具有开口的膜支承件；膜，安装到该膜支承件使得该膜跨该膜支承件中的开口延伸且密封；板，位于与所述膜相邻以用于允许至少一些UV光穿过它，该板具有轴且沿径向延伸；凝胶垫，安装到该板；压模，安装到该凝胶垫；母模，位于与所述压模相邻与所述凝胶垫相反，且具有带压印特征的接触表面；以及UV束漫射器，位于与所述膜相邻且与所述板相反，以用于将准直UV入射束漫射成随机化的UV入射束。
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